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【神奈川/寒川】半導体レジスト材料開発(新素材の設計・合成/ポリマー重合)◇東証プライム上場

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【神奈川/寒川】半導体レジスト材料開発(新素材の設計・合成/ポリマー重合)◇東証プライム上場

doda (デューダ)

【神奈川/寒川】半導体レジスト材料開発(新素材の設計・合成/ポリマー重合)◇東証プライム上場

10 days ago

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Important information


Contract type:

Permanent

Location:

Fukushima, Japan

Work mode:

Onsite

Published on:

12 October 2026

What they need


【企業名】

東京応化工業株式会社

【職種名】

【神奈川/寒川】半導体レジスト材料開発(新素材の設計・合成/ポリマー重合)◇東証プライム上場

【仕事内容(概要)】

【神奈川/寒川】半導体レジスト材料開発(新素材の設計・合成/ポリマー重合)◇東証プライム上場

【具体的な仕事内容】

【機能材料開発課配属*合成業務メインのポジション/賞与6か月分見込/平均残業16.4時間/各種手当など福利厚生充実/世界トップクラスシェア製品多数】

■業務内容

ご入社後は開発本部機能材料開発課に配属となります。

以下に記載の通り、主に合成業務をメインで担っていただきます。

■ご入社後の主な担当業務

・レジスト特性改善につながる新規素材の設計、合成

・レジスト用ポリマー重合

・新規材料のスケールアップ可能な処方確立、サプライヤとの量産化に向けた議論と品質管理

・顧客、他部署、他部門と議論し、顧客要望の具現化、および課題解決

・大学、研究機関との連携

※場合により海外勤務もありえます。(顧客対応、大学、研究機関への出向等)

※会社都合もしくは能力、適性などの都合により上記業務内容以外の仕事をしていただく可能性がございます。

■組織構成

男性21名、女性3名

■募集背景

前工程レジスト開発において、新規原材料の開発加速によりレジスト特性を早期に確認することが採用における重要項目になっております。

素材合成に対する要望及びそれに対する業務は引き続き増加しているため、人材を入れて業務を実施していく必要があります。

今回は主に合成部隊をメインとして募集をかけておりますが、能力や適性次第で将来的に合成業務以外の仕事をしていただく可能性があります。

■当社の魅力

・85年以上の歴史がある大手化学メーカー。

・穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数17.1年です。

・自己資本比率70%超と安定経営を実現。

・平均年収865万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。

■当社について

半導体デバイスの製造工程では、フォトリソグラフィという技術を用いてシリコンウエハ上に微細な溝を刻み、そこに回路を形成します。当社はこの工程で使用する様々なフォトレジストの開発・製造・販売を事業の柱として成長してきた企業です。

変更の範囲:会社の定める業務

【対象となる方(概要)】

<最終学歴>大学院、大学卒以上

【対象となる方(詳細)】

<応募資格/応募条件>

■必須条件

・化学系の大学または大学院※専攻が異なる場合でも化学系企業での開発経験を有していれば可

・低分子化合物の合成経験を有すること(好ましくはそれらの量産経験)

・半導体材料、電子材料に使用される化学薬品の取扱経験を有すること

・量子化学計算、データサイエンス、機械学習などのスキル

・各種分析経験(例:HPLC、GPC、NMR)を有すること

■歓迎条件

・語学力を有すること(特に英語)

【勤務地】

<勤務地詳細>

TTIC(TOK技術革新センター)

住所:神奈川県高座郡寒川町田端1590

勤務地最寄駅:JR東海道線/茅ヶ崎(北口)駅

受動喫煙対策:屋内全面禁煙

変更の範囲:会社の定める事業所

【アクセス】

<転勤>

当面なし

<オンライン面接>

可

【住所設定】

TTIC(TOK技術革新センター)/神奈川県高座郡寒川町田端1590 [最寄り駅]寒川駅

【勤務時間】

<労働時間区分>

フレックスタイム制

コアタイム:10:00~15:00

フレキシブルタイム:6:00~10:00、15:00~22:00

休憩時間:60分

時間外労働有無:有

<標準的な勤務時間帯>

8:30~17:15

【就業時間補足】

<その他就業時間補足>

■平均残業時間16.4時間

【雇用形態】

正社員

【期間】

<雇用形態補足>

期間の定め:無

<試用期間>

3ヶ月

※試用期間中、フレックスタイム適用外(通常の8:30~17:15の勤務時間となります)

【給与】

<予定年収>

570万円~770万円

<賃金形態>

月給制

<賃金内訳>

月額(基本給):320,000円~380,000円

<月給>

320,000円~380,000円

<昇給有無>

有

<残業手当>

有

<給与補足>

※ご経験により決定

■賞与:年2回(計6カ月分見込)

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。

月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

【待遇・福利厚生 各種制度】

通勤手当、家族手当、住宅手当、寮社宅、厚生年金基金、退職金制度

<社会保険>

健康保険 有、厚生年金 有、雇用保険 有、労災保険 有

各種社会保険完備、健保組合あり

<各手当・制度補足>

通勤手当:実費支給

家族手当:会社規定による

住宅手当:会社規定による

寮社宅:独身寮(入寮条件あり)

厚生年金基金:補足事項なし

退職金制度:補足事項なし

<定年>

65歳

<育休取得実績>

有(育休後復帰率100%)

<教育制度・資格補助補足>

一例:OJT研修、昇格時の階層別教育、資格取得奨励金制度、自己学習eラーニングコンテンツ

<その他補足>

■健康保険組合

■企業年金基金

■社員持株会

■財形貯蓄

■住宅援助金制度

■各種クラブ活動

■食費補助

■旅行補助金 他

【休日・休暇 その他】

完全週休2日制(休日は土日祝日)

年間有給休暇15日~20日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります)

年間休日日数123日

■有給休暇:入社半年経過時点15日 最高付与日数20日

■その他:年に2回程度、祝日週に土曜日出勤有

【事業概要】

~様々な事業分野で産業界を支える微細加工技術のリーディングカンパニー※世界でもトップクラスのシェア~

■概要:「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。

■事業内容:

・半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂(フォトレジスト)・高純度化学薬品を中心とした製造

材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売※主要商品:フォトレジスト、高機能化学薬品

■詳細:

1936年、医薬品の製造などに欠かせない化学品・水酸化カリウムの製造からスタート。1962年にはプリント基板用フォトレジスト(感光性有機樹脂)の製造を開始。以来、フォトリソグラフィ技術をコアテクノロジーとして、常に最先端の微細加工技術を切り拓き、豊富な技術資源を蓄積してきました。これは、ICやLSIなどの半導体、液晶ディスプレイや半導体パッケージなどの分野で利用されるほか、テレビ、携帯電話、スマートフォン、パソコン、カメラなどのディスプレイ製造分野、自動車部品、電子部品などの分野、太陽電池製造分野でも応用されています。TOKは、専門化学メーカーとして、高付加価値製品の微細加工技術に挑戦。日々の「ものづくり」によって、調和のとれた豊かな未来の創造に貢献しています。

【郵便番号】

2110012

【所在地】

神奈川県川崎市中原区中丸子150

【設立年 補足】

1940年10月

【従業員数】

1,996名

【市場】

プライム市場

【資本金】

14,640百万円

【売上高】

200,966百万円

【経常利益】

33,090百万円

【平均年齢】

43歳

【HPリンク先】

https://www.tok.co.jp/

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