纳米压印工艺工程师

该职位来源于猎聘 【岗位职责：聚焦产品开发】 1.新产品工艺开发：负责针对不同客户产品的特定需求（如光栅结构、微透镜阵列、生物芯片等），进行纳米压印光刻（NIL）全流程工艺的方案设计与验证，制定标准作业流程（SOP）。 2.材料适配性研究：基于产品结构特点和量产要求，评估并筛选适配的压印胶（UV固化或热固化）、抗反射涂层及离型层材料，解决材料与衬底的粘附性、残留层控制等问题。 3.工艺窗口优化：主导压印工艺参数的DOE实验设计（如压印压力、温度、对准精度、曝光剂量等），优化图形保真度、缺陷率及套刻精度，确保工艺的稳定性和可量产性。 4.模具技术对接：与模具制备团队或供应商协作，根据产品结构反馈模具（模板）的设计需求，解决压印过程中的脱模缺陷（如断柱、粘连、气泡）及模具污染问题。 5.检测与失效分析：利用SEM、AFM、椭圆偏振仪等设备对压印结果进行表征，分析缺陷产生机理（如气泡、塌陷、残留），并提出根本性解决方案。 6.技术文档撰写：撰写工艺开发报告、失效分析报告及专利申请文档。 【任职要求】 1.学历专业：本科以上学历，材料科学、高分子化学、微电子、光学工程、物理化学等相关专业。 2.经验要求： 具有2年以上纳米压印工艺研发或量产经验，熟悉热压印（Hot Embossing）或紫外压印（UV-NIL）技术者优先。 必须具有高分子材料或感光材料的实际应用经验，熟悉压印胶（Resist）的配方原理、固化机理及流变特性者优先。 有半导体工艺制程经验的优先 3.专业技能： 深刻理解纳米压印工艺中的关键难点，如残留层控制、缺陷抑制、脱附层（Anti-Sticking Layer）应用及模具寿命管理。 能够独立操作纳米压印设备（如EVG、SUSS、Obducat或自主研发设备）及配套显影刻蚀设备。 能够独立操作工艺检测设备，如SEM，AFM，共聚焦显微镜，椭偏测厚仪等。 熟悉微纳加工洁净室操作规范，具备良好的实验数据分析和DOE实验设计能力。 4.综合素质：具备较强的逻辑思维能力和跨部门沟通能力，能够快速响应产品需求变化，解决复杂的工艺交叉问题。