光刻工艺研发经理-Lithography Development Manager

关于公司

我们是一家专注于半导体行业的领先企业，致力于推动技术创新和卓越制造。我们的使命是通过不断的研发和优化，提升产品质量和生产效率，创造更美好的未来。

关于角色

该职位负责光刻工艺的研发，推进工艺节点开发，探索新材料、新设备和新工艺，提升光刻工艺的分辨率、良率和稳定性。

职责

• 负责光刻工艺（包括但不限于 DUV 光刻、多重曝光、光刻胶优化、套刻精度控制）的研发。
• 进行光刻仿真（OPC、SMO）及实验数据分析，优化工艺参数。
• 主导光刻工艺研发项目，制定技术路线图，确保项目按期交付。
• 跨部门协作（设备、整合、制程、良率等团队），推动技术落地量产。
• 分析光刻制程中的缺陷、套刻误差、CD均匀性等问题，提出技术解决方案。
• 建立 DOE（实验设计）方法，提升工艺窗口（Process Window）。
• 管理光刻研发团队，培养核心技术人员，撰写技术专利、论文，参与行业技术交流。

资格

• 硕士及以上学历，微电子、物理、化学、材料科学、光学工程等相关专业领域。
• 8年以上半导体光刻研发工作经验，熟悉半导体制造全流程（FEOL/BEOL）。
• 3年以上光刻工艺研发团队管理经验。

必备技能

• 精通光刻工艺核心知识（如 NA、DOF、EL、LWR 等关键指标）。
• 熟悉光刻设备（ASML、Nikon、Canon）及配套检测设备（KLA、Hitachi）。
• 熟悉光刻胶、抗反射层（BARC）及显影工艺优化。
• 熟悉数据分析工具（JMP、MATLAB、Python 进行 SPC/CD-SEM 分析）。
• 出色的跨部门沟通与项目管理能力（PMP/敏捷开发加分）。
• 具备创新思维与商业敏锐度，能将研发成果转化为量产技术。

薪资范围和补偿方案

薪资范围将根据经验和能力进行讨论。

平等机会声明

我们致力于创造一个多元和包容的工作环境，欢迎所有背景的申请者。我们相信多样性能够推动创新和成功。